Pembetulan parut keloid

Rawatan konservatif. Sepanjang sejarah rawatan parut keloid dan hipertropik, sejumlah besar kaedah telah dicadangkan yang mempunyai kesan tertentu, tetapi tidak membawa kepada penyelesaian yang boleh dipercayai untuk masalah itu. Pada masa ini, jenis rawatan yang paling biasa untuk parut hipertropik dan keloid adalah seperti berikut.

Terapi sinar-X. Dos sinaran bergantung kepada saiz parut. B.Cosman et al. cadangkan dos purata yang paling berkesan sebanyak 800 R 4 kali selama 4-8 minggu. EKVasilieva, LIKrikun dan VFBolshakov menggunakan purata dos sinaran 1000 R sekali sebulan, kursus rawatan 10 sesi. Rawatan itu berjaya dalam 80% kes.

Walaupun hasil yang mengagumkan, rawatan jenis ini harus digunakan dengan sangat berhati-hati, kerana komplikasi sering diperhatikan - atrofi tisu, hiperpigmentasi, pembentukan telangiectasias dan juga ulser.

Cryotherapy dengan nitrogen cecair. Permukaan parut dirawat dengan nitrogen cecair, yang mengakibatkan nekrosis bahagian tisu parut yang menonjol. Permukaan dirawat sehingga lepuh muncul, yang menunjukkan kesan yang cukup dalam. Selepas epitelisasi luka yang terhasil, prosedur diulang.

Kaedah ini memberikan hasil yang baik untuk keloid muda dan parut hipertropik, tetapi ia kurang berkesan untuk parut lama.

Terapi laser. Kelebihan utama laser CO2 adalah trauma minimum pada tisu sekeliling. Apabila menggunakan laser, jumlah minimum tisu nekrotik terbentuk, mengakibatkan parut yang lebih kecil.

Suntikan steroid. Ubat yang paling banyak digunakan sejak kebelakangan ini ialah triamcinolone (Kenalog-40) dan suspensi hidrokortison asetat.

Suntikan diberikan dalam kursus 3-5 sesi, dengan rehat 7-10 hari di antara mereka.

Sebelum steroid diberikan, tisu lembut yang mengelilingi parut disusupi dengan larutan lidocaine 0.5%. Di bawah pengaruh terapi hormon, parut menjadi lembut dan jumlahnya berkurangan dengan ketara. Walau bagaimanapun, dalam beberapa kes, beberapa bulan selepas selesai rawatan, pertumbuhan parut keloid disambung semula.

Penggunaan kepingan silikon. Penerbitan pertama pada kepingan silikon-gel muncul pada awal 80-an. Kerja-kerja ini menunjukkan bahawa salutan silikon itu sendiri (tanpa pembalut tekanan) mengurangkan proses pembentukan parut yang berlebihan.

Salutan gel silikon ("Epiderm") ialah salutan fabrik lembut dan melekit yang diperbuat daripada gel bertetulang. Ia benar-benar tidak toksik dan tidak merengsakan tisu.

Keperluan utama untuk penggunaan plat adalah untuk mengekalkan kebersihan permukaan plat dan kawasan kulit yang digunakan. Tempoh optimum tindakan plat adalah 24 jam sehari, tempoh minimum permohonan ialah 12 jam sehari.

Plat digunakan pada permukaan kulit, sebelum ini dibasuh dengan sabun, supaya ia menonjol di luar tepi parut sebanyak 0.5 cm. Setiap 12 jam, pinggan dikeluarkan, dibasuh dengan larutan sabun (serta kawasan parut) dan diletakkan semula di tempatnya. Selepas 10-14 hari, sifat pelekat permukaan gel hilang. Dalam kes ini, plat mesti diganti dengan yang baru. Tempoh kursus rawatan ialah 2-3 bulan.

Menurut data yang diterbitkan, kambuh dengan jenis rawatan ini diperhatikan dalam 20-46% kes.

Di Pusat Pembedahan Plastik dan Rekonstruktif, plat silikon "Epiderm" digunakan dalam rawatan 30 pesakit dengan parut keloid. Masa penggunaan plat adalah 1.5-2 bulan. Pengalaman terkumpul membolehkan kami membuat kenyataan berikut:

• penggunaan terpencil kepingan silikon Epiderm selama 1.5-2 bulan membawa kepada pengurangan ketara dalam jumlah parut keloid dan hipertropik, bagaimanapun, kesan ini tidak stabil, dan jumlah parut boleh meningkat semula;
• Lembaran silikon mempunyai kesan yang baik walaupun pada parut yang berumur bertahun-tahun, tetapi kesan terapeutiknya lebih ketara apabila kursus rawatan dijalankan dalam tempoh dari 1 bulan dan kemudian dari hari pembedahan (semasa tempoh pembinaan semula akhir parut);
• Penggunaan plat silikon hanya boleh dilakukan dalam kes di mana parut terletak di kawasan anatomi yang mempunyai permukaan rata dan tidak melengkung yang tidak tertakluk kepada ubah bentuk semasa pergerakan.

[ 1 ], [ 2 ], [ 3 ], [ 4 ]